プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例
プラズマ CVD ニオケル セイマク ジョウケン ノ サイテキカ ニ ムケタ ハンノウ キコウ ノ リカイ ト プロセス セイギョ セイマク ジレイ
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : サイエンス&テクノロジー |
| 出版年 | 2018.9 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 328p, 図版 [5] p : 挿図 ; 26cm |
| 別書名 | 異なりアクセスタイトル:プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御成膜事例 |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 請求メモ | 予約 | 仮想書架 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 五:コラトリエ・ライブラリー5階図書 |
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571.4/P97 | a5018202060b |
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9784864281706 |
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