資料番号	C101406199
書誌ＩＤ	2000008319
原簿番号
巻　　次	46(2) 反応性ｽﾊﾟｯﾀﾘﾝｸﾞ法による超LSI用窒化ﾀﾝﾀﾙ薄膜作製と諸性質/植草新一郎
配架場所	泉:中央図書館雑誌コーナー
請求記号
状　　態	禁帯出
ＩＳＢＮ	03864944
資料種別	未製本雑誌
年次/刊行日	2008.03.31
文庫区分
配架日	2008.03.31
LDF
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利用注記	禁帯出
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