Modeling of film deposition for microelectronic applications / edited by Stephen Rossnagel
(Thin films ; v. 22)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | San Diego : Academic Pr. |
| 出版者 | Tokyo |
| 出版年 | c1996 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | xiv, 291 p., [3] p. of plates : ill. (some col.) ; 24 cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 請求メモ | 予約 | 仮想書架 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 泉:多賀城キャンパス図書館図書コーナー |
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QC/176t/22 | a5096006370b |
|
0125330227 |
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| 一般注記 | Includes bibliographical references and indexes Continued from: Physics of thin films : advances in research and development. vols. 1(1963)-19(1994) |
|---|---|
| 著者標目 | Francombe, Maurice H. Vossen, John L. |
| 件 名 | Thin films |
| 書誌ID | 1000960067 |
| ISBN | 0125330227 |
| NCID | BA28758239 |
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