微細加工技術 / 高分子学会編
ビサイ カコウ ギジュツ
(ポリマーフロンティア21シリーズ ; 13)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : エヌ・ティー・エス |
| 出版年 | 2002.9 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | v, 192, vp ; 27cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 請求メモ | 予約 | 仮想書架 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 土:中央図書館閉架地下記念文庫室(上層) | 基礎編 | 549.8/B47k | a5003200270b |
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4860430069 |
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| 泉:多賀城キャンパス図書館図書コーナー | 基礎編 | 549.8/B47k | a5003200160b |
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4860430069 |
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書誌詳細を非表示
| 内容注記 | 基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 / 大津元一 [執筆] フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 / 河田聡 [執筆] 自己組織化的手法による微細加工の将来展望 / 益子信郎 [執筆] マイクロリキッドプロセスを用いたデバイス創成と将来展望 / 下田達也 [執筆] 連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 / 東博純 [執筆] 新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 / 緒方寿幸 [執筆] |
|---|---|
| 一般注記 | (社)高分子学会主催のセミナー(2002年4月16日開催)を講演録として編集したもの 奥付の編集: エヌ・ティー・エス編集企画部 各章末: 参考文献 応用編は固有の標題をもつ別書誌<BA62862404> |
| 著者標目 | 高分子学会 <コウブンシ ガッカイ> 大津, 元一(1950-) <オオツ, モトイチ> 河田, 聡 <カワタ, サトシ> 益子, 信郎 <マシコ, シンロウ> 下田, 達也 <シモダ, タツヤ> 東, 博純 緒方, 寿幸 |
| 件 名 | NDLSH:オプトエレクトロニクス NDLSH:半導体 |
| 分 類 | NDC9:549.8 NDC9:549.95 NDLC:ND371 |
| 書誌ID | 1000162413 |
| ISBN | 4860430069 |
| NCID | BA59010960 |
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