プロセスの低温化 / 西澤潤一編
プロセス ノ テイオンカ
(半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
| 出版年 | 1985.3 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 10, 331p, 挿図 ; 27cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 請求メモ | 予約 | 仮想書架 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 泉:多賀城キャンパス図書館図書コーナー |
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549.8/H29/21 | a5003202434b |
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4769310439 |
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| 一般注記 | 執筆: 石川潔ほか 各章末: 参考文献 |
|---|---|
| 著者標目 | 西澤, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ> |
| 件 名 | NDLSH:半導体 |
| 分 類 | NDC8:549 NDLC:ND371 |
| 書誌ID | 1000164817 |
| ISBN | 4769310439 |
| NCID | BN00282757 |
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