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入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著
ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク

データ種別 図書
出版者 東京 : 工業調査会
出版年 2006.12
本文言語 日本語
大きさ 323p, 図版2枚 ; 21cm

所蔵情報を非表示

土:中央図書館閉架地下記念文庫室(上層)
549.7/N99t a5006205832b
4769312598

書誌詳細を非表示

著者標目 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ>
竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ>
法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ>
件 名 リソグラフィー
分 類 NDC9:549.7
NDC8:549.7
書誌ID 1000308001
ISBN 4769312598
NCID BA79886837

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