光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン・ムソンショウカ オ ジツゲン
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
| 出版年 | 1994.3 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 266p : 挿図 ; 21cm |
| 別書名 | 異なりアクセスタイトル:光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温無損傷化を実現 |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 請求メモ | 予約 | 仮想書架 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 泉:多賀城キャンパス図書館図書コーナー |
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549/H57t | a5094214519b |
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4769311222 |
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| 泉:多賀城キャンパス図書館図書コーナー |
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549/H57t | a5094214524b |
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4769311222 |
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| 一般注記 | その他の編著者: 松波弘之, 村田好正, 英貢 執筆者: 西澤潤一ほか 章末: 参考文献 |
|---|---|
| 著者標目 | 高橋, 清(1934-) 編著 <タカハシ, キヨシ> 松波, 弘之(1939-) 編著 <マツナミ, ヒロユキ> 村田, 好正(1935-) 編著 <ムラタ, ヨシタダ> 英, 貢 編著 <ハナブサ, ミツグ> 西澤, 潤一(1926-2018) <ニシザワ, ジュンイチ> |
| 件 名 | BSH:半導体 BSH:光化学 NDLSH:電子部品 |
| 分 類 | NDC8:549 NDC8:549.8 NDLC:ND354 |
| 書誌ID | 1000477811 |
| ISBN | 4769311222 |
| NCID | BN10527941 |
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