シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで / 谷口研二 [編]
シリコン ネツ サンカ マク ト ソノ カイメン : キソ ブッセイ カラ チョウ LSI エノ オウヨウ マデ
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : リアライズ社 |
| 出版年 | 1991.7 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 422p ; 27cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 請求メモ | 予約 | 仮想書架 | 指定図書 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 泉:多賀城キャンパス図書館図書コーナー |
|
549.8/S88t | a5012207562b |
|
4947655445 |
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| 一般注記 | 各章末: 参考文献 |
|---|---|
| 著者標目 | 谷口, 研二(1948-) <タニグチ, ケンジ> |
| 件 名 | NDLSH:シリコン(半導体) |
| 分 類 | NDC8:549.8 NDLC:ND371 |
| 書誌ID | 1001085057 |
| ISBN | 4947655445 |
| NCID | BN1064502X |
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